Cuba para Eletroforese de Proteínas Vertical Grande

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VS20 WAVE Maxi – Cuba Vertical 20 × 20 cm para SDS-PAGE, IEF e Electroblotting

A VS20 WAVE Maxi é a mais recente inovação da Cleaver Scientific em sistemas de eletroforese vertical. Projetada para uma ampla gama de separações — SDS-PAGE (1D/2D), nativas, preparativas, em gradiente e de alta resolução — além de IEF (capilares ou IPG strips) e eletroblotting, a VS20 WAVE Maxi se destaca como uma das cubas verticais mais versáteis do mercado.

Gel casting rápido, seguro e sem vazamentos

O sistema de gel casting com 4 parafusos permite montar o gel diretamente na câmara e transportá-lo à cuba sem transferência intermediária. A pressão uniforme ao longo de toda a área de 20 × 20 cm minimiza bolhas e compressões, garantindo vedação confiável. O design em ondas melhora a ergonomia e o manuseio.

Principais benefícios

• Versatilidade total: SDS-PAGE (1D/2D), nativa, preparativa, gradiente, alta resolução, IEF e blotting*
• Produtividade: corre até 4 géis 20 × 20 cm (configuração expansível)
• Montagem ágil: gel caster integrado com 4 parafusos e transporte direto
• Qualidade de separação: pressão homogênea reduz artefatos e vazamentos
• Controle térmico: sistema de refrigeração incluso para corridas reprodutíveis

Aplicações

• SDS-PAGE em primeira e segunda dimensões (2D)
• Géis nativos, preparativos, em gradiente e de alta resolução
• Isoeletrofocalização (IEF) em capilares ou IPG strips**
• Eletroblotting para transferência eficiente de proteínas*

Especificações e recursos

• Formato do gel: 20 × 20 cm
• Capacidade: até 4 géis por corrida (sistema expansível)
• Gel casting: câmara com 4 parafusos, pressão uniforme e transporte direto
• Ergonomia: design em ondas para melhor pegada e manuseio
• Refrigeração: circuito/sistema para controle térmico durante as corridas

Conteúdo do sistema (incluso)

• VS20 WAVE Maxi 20 × 20 dual gels
• 2 conjuntos de placas (vidros)
• 1 espaçador de 1 mm
• 2 pentes de 24 poços (1 mm)
• Sistema de refrigeração
• Placa dummy
• Gel caster com suporte externo
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Observações

• * Eletroblotting: requer o módulo WAVE High Intensity Electroblotting e acessórios.
• ** IEF: requer o módulo WAVE Standard Electroblotting e acessórios.

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